Axis-y – Очищувальна маска з екстрактом полину – маска для обличчя з очищувальною дією. Ця властивість обумовлені наявністю бентоніту у складі, який додатково зменшує виділення себуму і матує шкіру. Екстракт полину відновлює та живить епідерміс. Формула містить численні зволожувальні компоненти: бетаїн, гіалуронову кислоту та бета-глюкан. Маска заспокоює та знімає подразнення, стимулює регенерацію та пом’якшує шкіру.
Активні компоненти:
екстракт полину – живить і відновлює,
бентоніт – має очищувальну дію, регулює виділення шкірного сала,
бетаїн – зв’язує воду в епідермісі, підтримує зволоження, заспокоює подразнення і прискорює регенерацію епідермісу,
гіалуронова кислота – зменшує надмірну втрату води з епідермісу, захищає і підтримує регенерацію, додатково пом’якшує, тонізує і розгладжує шкіру,
бета-глюкан – покращує еластичність епідермісу, зменшує подразнення, підтримує функціонування ліпідного бар’єра шкіри.
Дія засобу:
зволожує,
зменшує секрецію себуму,
очищає,
заспокоює.
Спосіб використання:
Лопаткою, що входить у комплект, набрати засіб, рівномірно розподілити по шкірі обличчя, уникаючи зони навколо очей і губ. Залишити на 15 хвилин і змити водою.
Об’єм: 100 мл
Відгуків немає, поки що.